英特尔明年推出0.045微米芯片 性能提高20%——贯通日本资讯频道

  英特尔的绝大多数酷睿2双内核处理器都采用了0.065微米生产工艺。0.045微米生产工艺使英特尔能够将芯片性能提高20%,将泄露电流量减少5倍。

  新生产工艺非常重要,它使芯片厂商能够提高芯片的速度、减小芯片尺寸、提高效能比,使得芯片在产品中所占的空间更小。

  英特尔计划在2008年推出代号为Nehalem的新一代微架构,并采用0.045微米生产工艺,芯片的效能比也将提高300%。

  

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英特尔明年推出0.045微米芯片 性能提高20%

【来源:赛迪网】 【作者:友亚】

    【赛迪网讯】10月17日消息,英特尔公司的官员本周一表示,英特尔将从明年下半年开始销售0.045微米版服务器、台式机、笔记本电脑用微处理器。

  据外电报道称,在我国台湾台北市举行的“英特尔开发商论坛”上,英特尔数字企业集团的总经理汤姆表示,英特尔只是缩小了芯片,而没有采用新的微架构。

  英特尔的绝大多数酷睿2双内核处理器都采用了0.065微米生产工艺。0.045微米生产工艺使英特尔能够将芯片性能提高20%,将泄露电流量减少5倍。

  新生产工艺非常重要,它使芯片厂商能够提高芯片的速度、减小芯片尺寸、提高效能比,使得芯片在产品中所占的空间更小。

  英特尔计划在2008年推出代号为Nehalem的新一代微架构,并采用0.045微米生产工艺,芯片的效能比也将提高300%。

  

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