图1：利用溶致液晶（左）合成介孔金属（右）的流程

 

介孔物质中规则排列了直径为2～50nm的微孔。比表面积大，有望应用于催化剂材料和吸附材料，近年来，通过使用电化学方法，合成具有金属构造的介孔金属成为可能。然而，在以往的介孔金属中，介孔构造不规则，难以实现大尺度的形态控制和介孔取向控制。为此，NIMS等以合成高规则性介孔金属为目的，开发出了能够采用溶剂挥发法的液晶模板法（Evaporation-mediated Direct Templating, EDIT）。

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