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中国地质大学(武汉)学子获得2016年度日本优良设计奖

作者:佚名  来源:中国高校之窗   更新:2016-10-21 8:39:17  点击:  切换到繁體中文

 

近日,中国地质大学(武汉)机械与电子信息学院2013级工业设计系杨致远、刘强,机械设计制造及其自动化系周子豪同学完成的产品设计Pocket Wallet荣获2016年度日本优良设计奖。



参赛队伍由机械与电子信息学院院长丁华锋带队,陈晓鹂担任指导老师。在六个多月的时间里,参赛成员克服了生产工艺的限制、资金短缺的困难,经历了使用者行为研究、产品设计、纸模制作、工艺调试、原料采购、成品打样、细节优化、产品拍摄等过程,最终完成了参赛产品。获奖者将携作品于10月27日赴日本东京六本木参加获奖展及颁奖仪式,获奖作品于今年底开始销售。


据悉,日本G-Mark设计奖由日本国际贸易与工业部于1957年设立,是亚洲最具权威性及影响力的设计奖项,与德国IF、Red Dot Award、美国IDEA齐名,有“东方设计奥斯卡奖”之称,是国际公认的四大设计奖项之一。每年约有1000多家企业的约4000件产品参评G-Mark,获奖作品被授予G-Mark标志,以表彰其产品的卓越品质和易用性,65%的日本民众认可这一标志。日本工业设计的开拓者与标志性人物深泽直人、隈研吾、原研哉等人都曾获此奖项。(通讯员:周守晨)



 

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