（图片出自：中央日报）

韩国政府提出了“半导体材料的国产化”政策，并对材料、零部件、设备行业（材料、元件、设备）进行了扶持。时至今日，一年时光已经过去，取得了一部分成果。其中，具有代表意义的成果是研发出了与日本厂商同等质量的、液体氟化氢材料。但是，用于极紫外光刻（Extreme Ultra-violet，EUV）曝光工序的光刻胶、高纯度氟化氢气体的国产化还没有得以实现。此外，产业界、学界普遍认为：“虽然韩国企业应该从多家供应商采购，但也不应该无条件地断绝与日本企业的合作”。

韩国成功研发了氟化氢液体

韩国政府对“材料、零件、设备的国产化政策”的实施结果，表示出了肯定的评价。文在寅总统在6月29日召开的首席秘书和辅佐官会议上表示，“这一年来，我们不畏日本的打击、正面迎击，取得了突破性进步。我们开拓了自主研发核心技术、不受制于人的产品供应体制，开拓了坚实的经济道路”。

当然，韩国也取得了一部分成果。比方说，韩国成功研发了液体氟化氢（属于日本限制对韩出口的范围）。液体氟化氢是一种用于半导体湿法蚀刻工序（即除去半导体晶圆上的异物）的材料。在日本实施限制对韩出口之前，日本的STELLA CHEMIFA株式会社、森田化学工业等企业向三星电子、SK海力士等韩国企业供货。但是，自日本实施禁令以后，韩国开始努力实施材料的国产化，今年年初韩国Soul Brain公司、RAM Technology等企业成功量产了与日本同等质量的材料，汉阳大学融合电子工学部的朴在勤教授表示：“韩国企业研发的材料与日本的产品具有同等的质量”。

说到氟化氢气体，其研发、制造都比液体难得多。SK Materials在6月17日表示即将启动纯度为99.999%的氟化氢的量产，但业界却表示纯度还是低于之前采用的日本的产品。据业界相关人员表示，“成功制作了氟化氢气体产品，这是值得肯定的，但是纯度较低，为了尽快应用到生产中，还在测试中”。

韩国，光刻胶的国产化之路很漫长

与氟化氢一样同属于日本限制对韩出口目录的另一产品为—用于EUV曝光设备的光刻胶（Photo Resist），而韩国的光刻胶国产化之路还很漫长。对于韩国三星专注的5纳米（1纳米=1米的1/10亿）以及更高的纳米制程来说，EUV曝光设备是必不可缺的。因此，如果三星电子无法采购用于EUV曝光的光刻胶，将无法与台湾的TSMC继续展开竞争。

东进半导体化学公司（DONGJIN SEMICHEM）等企业虽然正在研发用于EUV的光刻胶，但量产时间还未定。目前还是不得不使用JSR（捷时雅）、信越化学工业等日本企业的产品。据韩国贸易协会表示，自日本限制对韩出口到今年五月份，日本产品的进口总额为2亿7,474万3,000美元（约人民币19亿元），去年同期同比增加了3.5%。除此之外，主要用于柔性有机EL的聚酰亚胺的对日本的依赖程度为74%。据说韩国企业依旧十分钟爱日本住友化学的产品。

如果韩国、日本的企业分道扬镳，将会产生1,233亿美元的附加值

产业界、学术界普遍认为，如果韩国局限于“国产化”的框架、盲目排斥日本产品、持续与日本保持对立态势，这将不会产生任何好处。有分析指出，像氟化氢气体、EUV光刻胶这样的、很难找到代替品的材料还有200多种。

韩国首尔大学材料工学部的Hwang Chul Soon教授指出，应该始终保持采用质量较高的材料这一战略，也应该把日本企业当作材料采购的对象，不应该无条件地排除某一国家的产品。

近日，东义大学贸易学院的李弘培教授在韩国全国经济人联合会召开的“日本限制对韩出口一周年，评测与课题研讨会”上表示，要保证韩国、日本产业的竞争优势地位，需要确保韩国日本之间的紧密合作关系。如果韩国、日本企业分道扬镳，将会产生1,233亿美元（约人民币8,631亿元）的附加价值。