台积电以耐电压达40V的0.18μm工艺进行投产——贯通日本资讯频道
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台积电以耐电压达40V的0.18μm工艺进行投产

台积电(TSMC)日前宣布,将在业界首次采用可承受工作电压为40V0.18μm工艺进行生产。主要面向手机和便携式设备,可实现单芯片LCD驱动。

  采用该工艺,就可以在1.8V电压下运行的内部电路内,增加5V40V的驱动电路。这样一来,就可将LCD源驱动/门驱动IC和功率控制器电路IC集成在一个芯片中。或者将图形控制器和TFT/CSTN驱动集成在一个芯片中。

  在1.8V下工作的内部电路与台积电的0.18μm低电压工艺具有兼容性。也就是说,可直接使用面向0.18μm低电压工艺的电路库和IP。此外,还采用此次支持40V0.18μm工艺进行了以单晶圆试制多个芯片的“Cybershuttle”。另外,台积电还计划在2005年推出可实现OTPOne-Time Programmability)和MTPMultiple-Time Programmability)的IPOTPMTP无需增加工序即可实现。

台湾TSMC(Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd.)は,動作電圧40Vに耐える0.18μmプロセスでの量産を業界で最初に開始したと発表した。携帯電話機や携帯型機器に向けた,1チップのLCDドライバが実現可能になる。

 このプロセスを使うと,1.8Vで動作する内部回路に,5V40Vのドライバ回路を混載できる。これで,LCDソース・ドライバ/ゲート・ドライバICと,パワー・コントローラ回路IC1チップに集積可能になる。あるいは,グラフィクス・コントローラとTFTCSTNドライバを1チップに集積したりできる。

 1.8Vで動作する内部回路は,TSMC0.18μm低電圧プロセスと互換性がある。すなわち0.18μmの低電圧プロセス向けの回路ライブラリやIPがそのまま使える。また,複数チップを1ウエーハで試作する「Cybershuttle」を今回の40V対応の0.18μmプロセスでも実施する。さらに,2005年にはOTPone-time programmability)化やMTPmultiple-time programmability)化を可能にするIPを準備する計画。OTP化もMTP化も,プロセス・ステップの追加なしで実現できるとする。

 

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