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日立与瑞萨开发新PRAM 同时实现低耗电和小特性变动

作者:未知  来源:新日本华侨报   更新:2007-1-1 22:12:06  点击:  切换到繁體中文

 

日立制作所与瑞萨科技共同开发出了可同时减小PRAM的写入电流和特性变动的工艺。主要用于取代微控制器中混载的闪存,目标是3~4年内达到实用水平。两公司的目标是2010年前后使新PRAM达到实用水平。PRAM的开发商中,韩国三星电子将于08年左右投产旨在取代NOR型闪存的单个存储器。由于与单个存储器相比,混载需要与逻辑部分的特性相配合,因此“投产的难度还很大”(瑞萨)。


 

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