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GE元エンジニアら2人を産業スパイ罪で起訴 米司法省

作者:佚名  来源:本站原创   更新:2019-4-24 9:22:38  点击:  切换到繁體中文

 

企業秘密を盗んで中国側に渡したとして、米司法省は23日、米ゼネラル・エレクトリック(GE)に勤めていた米国籍でニューヨーク在住のエンジニア、チェン・シアオチン(56)と中国・遼寧省の中国人、チャン・チャオシー(46)の2被告を産業スパイなど計14件の罪で起訴したと発表した。


発表によると、チェン被告は2016~18年、GEのガスタービンや蒸気タービンに関する図面や材料、仕様といった秘密情報を不正に入手し、親族でビジネスパートナーのチャン被告にメールで送付。2人はその情報を使い、自分たちが立ち上げた2社で転用していたなどとされる。


この2社は中国政府から財政的な支援を受けており、瀋陽発動機設計研究所や瀋陽航空航天大、淮海工学院といった研究機関にも情報が流れていたという。(ニューヨーク=藤原学思)



 

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